“포괄허가, 닻을 올리다” — 삼성·SK 중국 라인, 미국 장비 들이려면 이제 매번 심사

1. 무엇이 달라지나

미국 상무부 산업안보국(BIS)이 중국 내 생산거점을 둔 삼성전자와 SK하이닉스, 그리고 인텔 계열 법인을 ‘검증된 최종 사용자(Validated End-User, VEU)’ 목록에서 제외하기로 결정했다. 포괄허가가 사라지면, 미국산 반도체 제조장비를 중국 공장으로 반출할 때마다 개별 수출허가를 받아야 한다. 이번 규정은 연방관보 정식 게재일(미 동부시간 9월 2일)로부터 120일 뒤 발효된다.

특히 삼성의 시안 NAND 공장과 SK하이닉스의 우시 DRAM 라인은 내년 1월경부터 장비 반입마다 심사를 거치게 된다. BIS는 허가 신청이 대폭 늘어날 것으로 보고 있다. 업계에서는 “라인 유지·보수는 열어주되, 증설·고도화는 죄는” 식의 관리로 해석한다.

2. 왜 지금인가

바이든 행정부 시절(2022년 10월) 본격화된 대중(對中) 장비 통제는 다국적 기업의 현지 팹을 예외로 두며 VEU라는 ‘패스트트랙’을 부여했지만, 현 행정부는 그 우회로를 닫는 선택을 했다. 관세 휴전의 연장선상에서 직행 수출은 다소 풀면서도, 동맹사의 중국 거점이 첨단 기술의 ‘역류 경로’가 되는 것을 차단하려는 계산이 깔린 것으로 보인다.

BIS는 기존 VEU 참여 기업에 대해 “현 설비의 운영 유지를 위한 라이선스는 허용하되, 중국 내에서의 신규 증설이나 기술 업그레이드는 불허”라는 가이드라인을 시사했다. 즉, 생산량 확대나 미세공정 전환은 사실상 멈춤 표지 앞에 선다.

핵심 파장: ‘안정적 유지 vs. 업그레이드 봉쇄’의 줄다리기

반도체 장비 반입을 수시 허가제로 전환하면 공급망은 잔잔한 파도 대신 잦은 풍랑을 만난다. 유지보수용 부품은 비교적 통과하더라도, 장비 교체·라인 증설·공정 전환에 쓰이는 장비는 ‘허가 가능성’이라는 불확실성이 상수로 붙는다. 이는 중국 내 생산 효율을 떨어뜨리고, 한국 기업들의 투자 로드맵을 재편하도록 압력을 가한다. 반대로 미국은 기술 확산 속도를 늦추는 시간 벌기에 성공할 수 있다.

시장의 즉각적 반응은 ‘리스크 프리미엄’의 재계산이다. 장비 반입 승인 지연은 재고·리드타임·가동률에 연쇄적으로 영향을 준다. 일례로, 노광기 레벨의 업그레이드가 막히면 미세화 로드맵이 느려지고, 이는 원가·성능 곡선 전체를 뒤흔든다. “전선(前線)에서 속도를 늦추면, 후방의 가격과 전략이 새로 그려진다”는 의미다.

현장 해설: 한국 기업의 선택지

단기적으로는 ▲필수 부품 선반입(프리로딩) ▲대체 공정 검토 ▲비미국산 보완장비 채택 등의 ‘방어적 최적화’가 거론된다. 중장기적으로는 중국 외 거점으로의 단계적 이전, 혹은 중국 내 라인의 ‘현상 유지’ 전략이 유력하다. 다만 비미국 장비로의 전환은 공정 호환성·수율·생태계 의존도라는 현실의 장벽을 만난다.

중국은 이번 조치를 “공급망 교란”으로 규정하며 반발했다. 외교·통상 변수까지 더해지면 허가 심사 결과는 기술 논리만으로 설명되기 어려워진다. 결국 기업은 생산 포트폴리오를 ‘허가 리스크 분산’ 관점으로 재배열해야 한다.

타임라인 & 체크리스트

• 9월 2일(미 동부): 연방관보 게재 예정
• 게재일 + 120일: 개별 허가 의무화 발효
• 발효 전: 유지·보수 필수품목 확보, 허가 시나리오별 생산계획 수립, 대체 조달 라인 검증
• 발효 후: 허가 승인 리드타임을 반영한 주문·가동률 조정, 비확장·비업그레이드 조건하 운영 유지 전략 점검